为使化学反应能在较低的温度下进行，常利用等离子体的活性来促进反应，这种方法称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)。加热炉设备的内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层，可提高设备的加热效率，同时也可延长设备的使用寿命。《查看更多》

OTF-1200X-80-I-4CV-CMPE-SL是传统PECVD与开发的智能通讯模块组合，可对传统PECVD实现自动化升级可自由搭配各种系统控制组合自定义CVD系统。是一款滑动式双温区PECVD 管式炉系统。该系统包含等离子射频电源，100mm OD1800mm L的滑动式双温区管式炉，4通道质量流量供气系统和机械泵机组，可用于生长纳米或石墨烯材料。《查看更多》

PECVD-8-16是一款平行板电容式PECVD系统，适用于中小式生产和实验，可放置12片6英寸基片。此系统组成：8英寸石英管管式炉，最高温度为1100℃，一个批量型石墨舟（可放12片基片），1000W射频电源，和一个4通道混气系统。此设备特别适用于太阳能电池和二维材料，扩产前测试实验。《查看更多》

为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD），内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命。《查看更多》