欢迎来上海添时科学仪器有限公司!我们将为您提供周到的服务!
联系我们Contact us
公司名称:上海添时科学仪器有限公司
联系人:范先生
固话:021-54338590
手机:18016035557
地址:上海市松江区沪亭南路299弄38号
首页 > 产品中心 > 制膜设备 > 磁控溅射镀膜 > 双靶磁控溅射仪

产品名称:双靶磁控溅射仪

产品型号:VTC-600-2HD-1000

更新时间:2021-11-30

产品特点:VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,

品牌其他品牌应用领域环保,化工,生物产业,电子,交通

主要特点:

1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。

技术参数:

产品名称VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪
产品型号
VTC-600-1HD
安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀
4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:需要
主要参数
1、输入电源:220V/50Hz
2、溅射靶数量:2
3、靶枪冷却方式:水冷
4、极限真空度:7.4E-5pa
5、真空室规格:Φ300×330 mm
6、真空系统:VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵
7、恢复真空:系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min(系统短时间暴露大气)
8、充气系统:2路质量流量计(1路氩气100scc、2路氩气200scc)特殊气体可定制
9、溅射靶规格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
10、样品台:Φ140mm/可旋转(1~20rpm)/可加热(室温~1000℃)
产品规格

主机尺寸:宽900mm×深650mm×高1100mm


 相关同类产品:

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7

上海添时科学仪器有限公司 版权所有  ICP备案号:沪ICP备14051797号-1 管理登陆  总流量:701208  网站地图  技术支持:化工仪器网

扫一扫访问手机站扫一扫访问手机站
访问手机站