产品名称:双靶磁控溅射仪
产品型号:VTC-600-2HD-1000
更新时间:2021-11-30
产品特点:VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,
品牌 | 其他品牌 | 应用领域 | 环保,化工,生物产业,电子,交通 |
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主要特点:
1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。
技术参数:
产品名称 | VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪 | |
产品型号 | VTC-600-1HD | |
安装条件 | 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水) 2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地 3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀 4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通风装置:需要 | |
主要参数 | 1、输入电源:220V/50Hz 2、溅射靶数量:2 3、靶枪冷却方式:水冷 4、极限真空度:7.4E-5pa 5、真空室规格:Φ300×330 mm 6、真空系统:VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵 7、恢复真空:系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min(系统短时间暴露大气) 8、充气系统:2路质量流量计(1路氩气100scc、2路氩气200scc)特殊气体可定制 9、溅射靶规格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同) 10、样品台:Φ140mm/可旋转(1~20rpm)/可加热(室温~1000℃) | |
产品规格 | 主机尺寸:宽900mm×深650mm×高1100mm |
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