磁控溅射仪可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。

产品分类CLASSIFICATION

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详细介绍

品牌	其他品牌	价格区间	面议
产地类别	国产	应用领域	化工,电子

    磁控溅射仪主要特点：

    1、真空度高。

    2、可制备多种薄膜，金属、半导体、绝缘体等，应用广泛。

    3、体积小，操作简便。

    4、清理安装便捷。

    5、控制可选一体化触摸屏控制

    技术参数：

产品名称	GSL-CKJS-450-B1磁控溅射仪
安装条件	本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用.
	1、水:设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）
	2、电:AC380V 50Hz,必须有良好接地
	3、气:设备腔室内需充注氮/氩气(纯度99.99%以上),需自备实验气体气瓶(自带Ø10mm双卡套接头)及减压阀
	4、场地:设备尺寸3500×1600mm,承重1000kg以上
	5、通风装置：需要
主要参数	1、主溅射室尺寸：Ø450×355mm筒形真空室
	2、主溅射室真空度：5×10-5Pa
	3、永磁靶3套,靶材尺寸φ2″,各靶射频与直流溅射兼容(其中1个靶可溅射铁磁材料),靶与样品距离90-110mm可调
	4、三靶共溅,三个靶可共同折向样品中心,距离40-80mm可调
	5、基片加热与水冷独立工作,加热炉可与水冷样品台可互换,加热工位最高温度600℃±1℃
	6、样品尺寸：φ1″
	7、样品台可连续回转,转速5-15转/分
	8、基片可加-200V负偏压
	9、公转6工位样品台,可一次性安装6片φ1″基片
	拆下水冷加热样品台可换上6工位样品台,其中5个工位为自然冷却工位,1个加热工位,加热工位温度600℃±1℃
产品规格	整机尺寸:1500×900mm×2000mm；
标准配件	1、电源控制系统1套
	2、真空获得系统1套
	3、真空测量装置1套

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