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1700℃真空气氛管式炉主要特点:炉膛顶部安装防爆机械排气阀;带过电流过电压保护,漏电保护电气元件及电缆,冷压端子均符合UL认证标准;针对于材料在惰性气体环境进行烧结或是退火,其最高温度可高达1700...

UNIPOL-802自动精密研磨抛光机适用于各种材料的研磨与抛光,本机设置了Ø203mm的研磨抛光盘和两个加工工位,可用于研磨抛光≤Ø80mm的平面。UNIPOL-802自动精密研...

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上海添时科学仪器有限公司是一家代理国内外仪器的经销及技术服务的专业公司。国内管式炉,退火炉,气氛炉,真空感应熔炼炉,箱式炉,手套箱,研磨抛光机,电池测试恒温箱,金刚石线切割机,磁控溅射仪,蒸发镀膜,PECVD设备供应商!公司所涉及的产品遍布大专院校、科研单位、工厂企业、商检、农业、食品、超市、治金矿山、建筑、石油、路桥等行业。主要产品:生命科学仪器,化学分析仪器,光学仪器,物性测试仪器及设备,环保设备/流量仪表,行业专用仪器,药物检测仪器,种子仪器,农业和食品仪器,石油仪器,煤炭仪器,测绘仪表,建筑仪器,公路仪器,地质仪器,电工仪器仪表,自动化仪表,气象仪器,环保仪器,电教器材,无线电仪器,小型机械等。并且提供与生物技术相关的实验室科研仪器设备、实验室耗材与试剂、实验室设计、规划、改建等服务。公司以“高品质,高服务,高信誉”赢得各地市场,各个领域的好评和欢迎。未来,公司将引进和代理更多国内产品,并将研发自有品牌的产品以满足市场不同的需求,以更高质量的产品,更高质量的服务,更高效率的运营,...

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公司新闻/News
技术文章/Article
  • 2025-07-01
    PECVD等离子体增强气相沉积的工作原理与应用领域解析
    PECVD等离子体增强气相沉积通过等离子体活化反应气体,在低温条件下实现高质量薄膜沉积,成为半导体、光学及能源领域核心技术。​​一、核心原理:等离子体催化化学反应​​PECVD等离子体增强气相沉积将反应气体导入真空腔室后,通过射频或微波电源激发产生等离子体。高能电子碰撞气体分子,使其解离为活性自由基、离子等粒子。这些高活性粒子在基底表面扩散并发生化学反应,生成固态薄膜沉积。与传统CVD依赖高温热解不同,等离子体的低温活化特性使沉积温度显著降低,避免高温对敏感基材的损伤。​​二...
  • 2025-06-17
    真空管式炉的工作原理与应用解析
    真空管式炉是一种在真空或保护气氛环境下进行高温加热的关键设备,其结构和工作原理使其在众多工业和科研领域中发挥着重要的作用。​​一、工作原理​​真空管式炉主要由真空系统、加热炉体和温控系统三部分组成。其核心工作原理是通过机械泵或分子泵将炉腔抽至高真空状态,创造一个无氧、无污染的环境。加热元件沿炉管均匀分布,利用电流的热效应产生高温,并通过辐射和对流方式将热量传递给样品。由于真空环境减少了气体对流传热,热量主要通过辐射传递,这使得温度分布更加均匀,特别适合对热敏感或易氧化的材料进...
  • 2025-06-03
    混合箱式炉在金属热处理中的关键作用
    金属热处理是提升材料性能的核心工艺,而混合箱式炉凭借其多功能性与精准控制能力,成为工业中的关键设备。它通过结合多种加热介质与工艺优势,为金属材料提供定制化的热处理解决方案,优化材料性能与生产效率。​​一、多工艺集成,适应复杂需求​​可同时支持退火、淬火、回火、正火等多种热处理工艺,满足不同金属材料的个性化需求。这种多功能性使同一设备可覆盖从精密零件到大型构件的全流程处理,减少设备投资与工艺切换时间。​​二、精准控温与均匀性保障​​金属热处理的成败很大程度上取决于温度控制的精确...
  • 2025-05-21
    真空感应熔炼炉的安全操作与维护技巧分析
    真空感应熔炼炉是金属材料精炼和合金制备的关键设备,其操作安全性和维护水平直接关系到生产连续性与设备使用寿命。结合工艺特性与设备结构设计,建立系统性的安全管理与养护机制是保障高效生产的前提。​​一、安全操作的核心要素​​真空感应熔炼炉涉及高温、高压及强电磁场环境,操作规范需覆盖全流程风险控制。​​1、工艺参数精准控制​​根据熔炼材料特性设定合理升温曲线,严格控制真空压力与升温速率,避免因温升过快引发金属飞溅或坩埚开裂。熔炼前需预检原料纯净度,清除易挥发杂质,防止真空系统污染。​...
  • 2025-04-18
    高效能CVD气相沉积工艺优化与控制策略
    CVD气相沉积技术作为一种制备薄膜材料的重要方法,在半导体、光学、涂层等多个领域有着广泛应用。为提高其效能,优化工艺及精准控制至关重要。优化反应气体供给是关键。控制气体的流量、配比及纯度,能确保反应的顺利进行。同时,采用高纯气体,可减少杂质引入,改善膜的性能。温度精准控制对于高效能CVD至关重要。温度直接影响反应速率、薄膜的生长速率和质量。通过精确的加热系统,根据不同的沉积材料和工艺要求,设定合适的沉积温度范围。压力控制也是优化CVD气相沉积工艺的重要环节。适当的压力环境能调...
  • 2025-03-20
    混合箱式炉如何助力工业生产中的温控精度?
    在工业生产领域,温控精度对于许多工艺环节的成功与否至关重要。混合箱式炉作为一种加热设备,在提升工业生产中的温控精度方面发挥着作用。一、多区域控温设计通常采用多区域独立控温的设计。其内部被划分为多个不同的加热区域,每个区域都配备有独立的加热元件和温度传感器。这种设计可以针对生产过程中不同部位的温度需求进行精确调控。同时,每个区域的温度传感器可以实时监测温度变化,并将数据反馈给控制系统,控制系统再根据反馈信息精准地调整加热元件的输出功率,进一步提高了温度控制的准确性。二、温度监测...
  • 2024-12-09
    研磨抛光机在金属加工中的应用与优势介绍
    研磨抛光机作为金属加工领域的重要设备,广泛应用于金属表面的处理,旨在提高工件的表面质量和美观度。一、应用领域1、精密零件加工:在精密机械制造中,研磨抛光机可用于处理小型、高精度的金属零件,以达到镜面效果,提升其使用性能和寿命。2、汽车零部件处理:汽车零部件如发动机缸体、曲轴等经过研磨抛光后,可减少摩擦阻力,提高燃油效率和动力输出。3、航空航天部件制造:航空航天领域对零部件的表面质量要求较高,能够确保这些部件达到严格的表面光洁度标准。4、医疗器械生产:医疗器械如手术器械、植入物...
  • 2024-11-13
    混合箱式炉的维护保养要点有哪些?
    混合箱式炉,作为一种高效且多功能的加热设备,在众多工业领域有着广泛的应用。然而,为了确保其长期稳定的运行和延长使用寿命,定期的维护保养至关重要。一、日常检查每日操作前,应仔细检查外观是否有明显的损伤或变形,各连接部位是否紧固无松动。此外,还需检查炉内是否有残留物,若有应及时清理,以免影响加热效果。二、定期清理在使用过程中,容易积累灰尘、杂质等污物。这些污物不仅会影响炉内的热效率,还可能导致炉膛堵塞、加热元件损坏等问题。因此,应定期对炉内进行清理,一般建议每季度进行一次全面清理...
  • 2025-07-08
    如何优化混合箱式炉的热处理过程?
    混合箱式炉通过整合多种热处理功能提升生产效率,但其工艺优化需从温度控制、气氛管理到装载方式协同改进,以实现性能与质量的平衡。​​一、精准控温减少波动​​温度均匀性是热处理的核心。优化加热元件布局可消除炉内温差,避免工件因局部过热或不足导致性能差异。结合热电偶实时监测与PID闭环调节,快速响应温度偏离并自动校正。对于复杂工件,需通过模拟软件预判温度场分布,调整装炉位置或增加隔热屏障,确保热量渗透一致性。二、​​气氛保护强化质量​​氧化、脱碳等问题会降低工件表面精度。通入高纯度氮...
  • 2025-07-04
    蒸发镀膜仪的使用细节与操作规范
    蒸发镀膜仪是一种通过物理气相沉积(PVD)技术在基底表面沉积薄膜的设备,广泛应用于半导体、光学、材料科学等领域。其核心原理是通过加热蒸发源材料(如金属、氧化物等),使其气化后在基底表面冷凝成膜。为确保镀膜质量、设备稳定性及操作安全性,需严格遵循以下使用细节与规范。一、设备组成与工作原理蒸发镀膜仪主要由以下部分组成:1.真空系统:包括机械泵、分子泵及真空腔体,用于创造高真空环境(通常达10⁻³~10⁻⁵Pa),避免气体分子干扰镀膜过程。2.蒸发源:采用钨丝、钼舟或电子束加热,将...
  • 2025-06-24
    如何利用CVD气相沉积提升材料的性能与可靠性?
    CVD气相沉积技术通过精确控制气相反应过程,在微观尺度重构材料表面与内部结构,为突破传统材料性能瓶颈提供了解决方案。这项起源于半导体制造的工艺,正在多个领域展现出应用价值。在材料表面工程领域,CVD气相沉积实现了原子级的涂层构建。通过选择特定前驱体气体,在基体表面形成致密的化学键合涂层,不仅能提升耐磨性,还能构建功能性表面。在航空航天领域,CVD制备的碳化物涂层使涡轮叶片工作温度提升,同时保持表面光洁度,大幅降低气动阻力。这种涂层与基体的化学键合特性,使其在特殊工况下仍能保持...
  • 2025-06-10
    真空气氛管式炉在半导体与电子制造中的重要作用
    在半导体与电子制造领域,真空气氛管式炉凭借其高温热处理能力,成为提升材料性能、优化工艺质量的核心设备,尤其在芯片制造、电子元器件生产和材料研发中发挥着重要的作用。​​一、高纯环境保障材料品质​​半导体器件对材料纯度要求较高,任何微量杂质都可能影响性能。真空气氛管式炉通过抽真空或充入惰性气体,有效隔绝氧气和水分,防止金属、硅片等材料在高温下氧化或腐蚀。这一特性使其成为制备高纯度金属电极、半导体薄膜和陶瓷基板的理想选择,为后续光刻、蚀刻等工艺奠定基础。​​二、可控退火优化器件性能...
  • 2025-06-09
    化学气相沉积的影响因素及其作用机制
    化学气相沉积是一种通过气相化学反应在基底表面沉积固态薄膜的材料制备技术,广泛应用于半导体、光伏、涂层等领域。CVD过程的复杂性源于多个工艺参数的耦合作用,这些参数直接影响薄膜的化学成分、微观结构、力学性能和均匀性。以下从反应动力学、热力学、流体力学及材料特性等角度,系统分析CVD的核心影响因素。一、温度:主导反应速率与成核机制1.热激活效应与反应动力学温度是CVD最核心的调控参数,通过阿伦尼乌斯方程直接影响反应速率常数\(k\)。升高温度可加速前驱体分子的分解与表面扩散。温度...
  • 2025-05-27
    如何通过研磨抛光机提高产品表面光泽度?
    研磨抛光机是提升产品表面质量的关键设备,在精密制造、汽车、五金等行业广泛应用。通过科学调节工艺参数与优化操作流程,能够改善产品表面光泽度,实现光亮如镜的表面效果。​​一、精准控制磨削力度与速度​​研磨抛光机通过物理摩擦去除材料表面的细微瑕疵,合理的力度控制是基础。初期采用较粗磨料进行快速整平,逐步过渡到细粒度磨料,确保表面逐步精细化。速度调节同样重要,适中的磨削速率可避免过热导致的表面烧伤,保持材料原有特性。通过分层处理方式,逐步提升表面平滑度,为后续抛光创造良好基础。​​二...
  • 2025-05-20
    气氛炉的温控技术与气氛控制技巧分析
    气氛炉作为高温处理设备,在材料烧结、热处理、气氛保护等领域发挥着重要作用。其核心技术在于精确的温控系统与高效的气氛控制能力,这两大因素直接影响产品质量与工艺效果。​​一、温控技术:精准稳定为核心​​温控系统需兼顾精确性与稳定性,确保气氛炉炉内温度均匀分布。温控系统采用多点测温装置,可实时监测炉内不同区域的温度变化,并通过智能调节算法动态调整加热功率,消除温度波动和区域差异。分区控温设计进一步提升了温控精度,适用于对温度敏感的材料处理工艺。​​二、气氛控制技巧:适配工艺需求​​...
  • 2025-05-15
    提高研磨抛光效率的技巧与注意事项
    研磨抛光是工业制造和精密加工中的关键环节,直接决定零部件的表面质量和生产效率。掌握科学的工作方法和注意事项,能有效提升研磨效果,缩短加工时间,同时保证加工精度。​​一、工件与工具优化匹配​​选择与工件材质适配的磨料与抛光工具是基础。硬质合金工件需配合金刚石磨料,而软金属则适合碳化硅材料。工具的粒度粗细应根据加工阶段调整,粗磨选用较大粒度快速去除材料,精抛则用细粒度达到光洁表面。定期修整磨具,保持其锋利度,避免钝化工具导致效率下降。​​二、合理规划工艺流程​​根据工件形状与精度...
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