Technical Articles

技术文章

当前位置:首页  >  技术文章

微型液体气化仪基本参数产品介绍
微型液体气化仪基本参数产品介绍

产品概述LVD-F1是一款适用于实验室中CVD或DLCVD实验的导入液体的一款经济高效的液体蒸发输送系统。其液体流量是通过一个数字液体泵来控制,最大流量为10ml/min。液体被蠕动泵导入到混气系统后,被系统里的加热装置加热成蒸汽,然后随导入的气体被带入到炉管中。LVD-F1能够导出多种液体,比如ETOH,SnCl4,TiCl4r,SiHCl3,和Zn(C2H5)2,还有多种有机物混合。对于研究用...

2021-06-18
查看详情
  • 用 STX 金刚石线切割机切割多孔碳材料

    用STX金刚石线切割机切割多孔碳材料实验材料:长宽高约110×50×40㎜图1实验样品实验目的:将多孔碳材料试样切割成10×10×10㎜的方块,用于测试多孔碳材料的性能如,倍率测试、吸附性测试、电化学性能测试、循环性能测试等。材料特性:多孔碳材料具有耐热、耐腐蚀、无毒害、不会造成二次污染、可再生重复利用等特点。多孔碳材料的孔结构高度发达,具有大的比表面积,由此产生的优异吸附性能,尤其是对油的吸附性。多孔碳材料硬度低,质脆。实验设备:STX-202AQ金刚石线切割机、MTI-3...

    20218-31
    查看详情
  • 用 UNIPOL-1200M 抛光机对芯片断面的研磨抛光

    用UNIPOL-1200M抛光机对芯片断面的研磨抛光实验材料:方形芯片,芯片如图1所示:图1实验所用样品图实验目的:对芯片侧面的断面进行研磨抛光,并观察研磨抛光后的断面状况。实验设备:科晶制造的CXQ-2500自动冷镶嵌机、UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机、4XC金相显微镜实验所用耗材:金相砂纸、金刚石喷雾抛光剂实验过程:镶嵌:由于芯片比较薄,侧面面积较小,不利于研磨抛光,又UNIPOL-1200M自动压力研磨抛光机对样品进行研磨抛光时需要样品呈圆柱状,若原始样品为...

    20218-30
    查看详情
  • 精密研磨抛光机对球形CeO2 粉体的制备及其抛光性能的研究

    精密研磨抛光机对球形CeO2粉体的制备及其抛光性能的研究摘要:以硝酸铈、尿素为原料,柠檬酸为表面活性剂,首先采用水热法制备出球形CeCO3OH前驱体再经高温焙烧得到球形CeO2粉体。利用XRD、FT-IR、SEM及抛光试验对CeO2粉体性能进行表征,结果表明:以柠檬酸为表面活性剂,在180℃时水热反应24h,再经800℃高温焙烧,所制备的CeO2粉体呈球形,分散性好,粒度约为2μm,且粒度分布均匀,适合软质玻璃的精密抛光。关键词:CeO2粉体;水热法;球形;抛光性能随着高精密...

    20218-27
    查看详情
  • 2000℃真空感应熔炉的产品特点有哪些?

    IMCS-2000-是一款精简版高真空感应熔炼&铸造炉,可熔炼各种合金,最大熔炼量可达1kg(按Fe密度算),最高熔炼温度可以达到2000℃,配有二次加料机构,可在真空或气氛保护环境下进行二次加料。安装了高温搅拌机构,可在真空或气氛环境下对熔炼样品进行高温搅拌,使熔炼更加均匀。真空度可达10-6Torr(采用分子泵系统)。此款设备是一款价格低廉的金属研究利器。产品特点·价格便宜,低成本可在保护气氛下进行金属熔炼和铸造·最大熔炼量可达1kg(按Fe密度算)·带有手动浇注功能,可...

    20218-26
    查看详情
  • 基片清洗对旋转涂膜的影响

    基片清洗对旋转涂膜的影响旋转涂膜机,又称匀胶机、甩胶机等,目前可应用的领域很广主要涉及微加工、生物、材料、半导体、制版、新能源、薄膜、光学及表面涂覆等领域。旋转涂膜机的基本原理是在高速旋转的基片上,滴注各类胶体或溶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,但涂后薄膜的质量除与胶体或溶液的粘稠度、胶液与基片间的粘滞系数、转数、旋涂时间有关外,与基片清洗的质量也密切相关。本实验主要研究在基片、溶液、旋涂参数相同的情况下基片的清洗对旋转涂膜后的薄膜质量的影响。实验材料:φ...

    20218-25
    查看详情
  • 汽车门框密封条检测样品的切割选择—金刚石线切割机

    汽车门框密封条检测样品的切割选择—金刚石线切割机汽车门框密封条是汽车密封条产品当中最重要的密封条之一,在整车密封质量评价当中占主导地位。汽车门框密封条的性能检测,有时需要选取其横截断面薄片作为检测样品。例如,截面气泡、麻点、脱层裂缝、涂层等检测。汽车门框密封条主要由起安装固定作用的装卡部分和起密封作用的密封部分构成,主要原材料是三元乙丙橡胶(EPDM)。装卡部分主要由密实胶基体组成,密实胶内含有金属架,起加强胶条定型和固定作用,防止工作中脱开或脱落。密封部分由海绵胶泡管基体组...

    20218-24
    查看详情
  • 金刚石线切割机、研磨抛光机对压电陶瓷的切割、研磨、抛 光工艺 压电效应

    金刚石线切割机、研磨抛光机对压电陶瓷的切割、研磨、抛光工艺压电效应某些材料在机械应力作用下,引起内部正负电荷中心相对位移而发生极化,导致材料两端表面出现符号相反的束缚电荷的现象,称为压电效应。反之,当这类材料在外电场作用下,其内部正负电荷中心移位,又可导致材料发生机械变形,形变的大小与电场强度成正比。具有这种性能的陶瓷称为压电陶瓷,它的表面电荷的密度与所受的机械应力成正比。vv压电陶瓷作为压电陶瓷的原材料,在晶体结构上一定是不具有对称中心的晶体,如氧化铅、氧化锆、氧化钛、碳酸...

    20218-23
    查看详情
  • 旋转涂膜机在半导体光刻工艺中的应用

    旋转涂膜机在半导体光刻工艺中的应用半导体光刻工艺过程要在洁净室中进行,且洁净室的等级要达到半导体光刻工艺的要求。光刻的目的是将掩膜版的图形转移到光刻胶,再通过刻蚀将光刻胶的图形转移到硅片表面。光刻工艺的基本过程:涂胶:涂胶时选用沈阳科晶自动化设备有限公司制造的VTC-100PA-UV紫外光旋转涂膜机将光刻胶均匀的涂在硅片表面,膜厚度与旋转速度的平方根成反比。前烘:涂膜后使用HT-150型精密烤胶机对硅片进行前期烘烤,去除胶内的溶剂,从而提高胶体在硅片表面的粘附力,提高胶体薄膜...

    20218-20
    查看详情
  • 镍基高温合金陶瓷涂层的制备及性能表征

    镍基高温合金陶瓷涂层的制备及性能表征摘要:以Cr2O3粉、玻璃料及黏土为原料制成料浆,通过喷涂将其涂覆在镍基高温合金GH44的表面,采用热化学反应法于1050℃保温10min,熔烧制备出高温陶瓷涂层。通过扫描电镜和X射线衍射分析了高温陶瓷涂层的表面和截面形貌以及相组成,对涂覆陶瓷层的镍基合金的抗热震性能、抗氧化性能以及高温疲劳性能进行了测试。结果表明,陶瓷涂层结构致密,与基体结合牢固,具有良好的抗热震性能。涂覆陶瓷层的镍基合金其高温抗氧化性相对于基体提高了6倍以上,其高温疲劳...

    20218-18
    查看详情
  • 用 STX-100QX 金刚石曲线切割机切割炭纤维复合材料及玻璃

    用STX-100QX金刚石曲线切割机切割炭纤维复合材料及玻璃STX-100QX金刚石曲线切割机形貌如图一所示:图一金刚石曲线切割机形貌图由科晶设计研发的金刚石曲线切割机,是我公司*使用金刚石线对非金属及金属材料进行曲线切割的设备。该设备可通过编程设置切割形状,然后金刚石线按程序所设置的路径行走,从而切割出各种不同的形状。该设备有效解决了一些难加工材料曲线切割的难题,如陶瓷材料、晶体材料、红外光学材料(如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体)、热电材料(如碲化铋,碲化铅、硅锗合金等)、...

    20218-17
    查看详情
  • 用自动研磨机研磨高分子复合材料

    用自动研磨机研磨高分子复合材料实验材料:12×12×19㎜的高分子复合材料试样块4块,样品尺寸如图1所示;实验目的:将高分子复合材料选取一组面(两面相对)研磨并抛光。实验设备:科晶制造的UNIPOL-802自动精密研磨抛光机、MTI-3040加热平台、VGT-1620QTD超声波清洗机,实验所用设备如图2所示;实验耗材:水磨砂纸、合成革抛光垫、金刚石喷雾抛光剂、石蜡,实验所用耗材如图3所示;实验过程:要对样品进行研磨首先要把样品固定在研磨机专用载样块上,一般选用石蜡在载样块上...

    20218-16
    查看详情
  • 柠檬酸对聚合物前驱体法制备 WO3 薄膜光电性质的影响

    柠檬酸对聚合物前驱体法制备WO3薄膜光电性质的影响摘要:以偏钨酸铵为钨源,柠檬酸为络合剂,聚乙二醇(PEG)为聚合物合成前驱体溶胶,并用浸渍提拉法在FTO导电玻璃上制备了WO3薄膜,研究配位剂柠檬酸对聚合物前驱体法制备WO3薄膜结构和光电性质的影响。采用X线衍射、拉曼光谱和场发射扫描电镜等手段研究薄膜的相组成及表面形貌,借助标准三电极体系进行了光电化学测试,并进一步讨论了柠檬酸对WO3薄膜光电性能影响机理。结果表明:CA和W摩尔比为0,0.5,1.0和2.0条件下薄膜表面颗粒...

    20218-13
    查看详情
共 690 条记录,当前 21 / 58 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
021-54338590
欢迎您的咨询
我们将竭尽全力为您用心服务
66697150
关注公众号
版权所有 © 2025 上海添时科学仪器有限公司  备案号:沪ICP备14051797号-1

TEL:021-54338590

关注公众号