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产品名称:钙钛矿镀膜机

产品型号:

更新时间:2022-08-01

产品特点:钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。

品牌深圳科晶价格区间面议
产地类别进口应用领域化工,能源,电子,电气,综合

钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置,防止蒸发源被污染。1、样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置。
2、设有烘烤加热功能,可在镀膜过程中加热样品,最高烘烤加热温度为180℃。
3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。

产品名称钙钛矿镀膜机
主要参数
1、镀膜室:不锈钢材料,采用方形前后开门结构,内带有防污板,腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm
2、真空排气系统:采用分子泵+机械泵系统
3、真空度:镀膜室极限真空≤6×10-4Pa
4、系统漏率:≤1×10-7Pa
5、蒸发源:安装在真空室的下底上;
有机蒸发源4个、容积5ml,2台蒸发电源,可测温、控温,加热温度 400℃,功率0.5KW;
无机蒸发源4套、容积5ml,2台蒸发电源,加热电流300A,功率3.2KW; 蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启
6、样品架:安装在真空室的上盖上,可放置Ø120mm的样品、载玻片,旋转速度0-30rpm
7、加热温度:RT-180℃,测温、控温
8、膜厚控制仪:石英晶振膜厚控制仪,膜厚测量范围0-999999Å


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