当前位置:首页 > 产品中心 > CVD气相沉积 > 等离子体增强CVD管炉 > OTF-1200X-II-PEC41200℃等离子增强HPCVD回转炉系统
产品分类CLASSIFICATION
详细介绍
品牌 | 合肥科晶 | 价格区间 | 面议 |
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仪器种类 | 管式炉 | 产地类别 | 进口 |
应用领域 | 环保,化工,能源,电子,综合 |
设备名称
1200℃等离子增强HPCVD回转炉系统—OTF-1200X-II-PEC4
产品提示
1、多种配件可选提示 2、特殊设备尺寸设备 3、科晶实验室邀请提示 4、配件妥善保管提示
产品特点
▪ 炉体可在0 ~ 25°内倾斜有利于粉末样品的装入和取出
▪ 射频电源可实现等离子增强从而显著降低实验温度
▪ 齿轮驱动管式炉旋转可有效地提高复合粉末热处理的均匀性
▪ 4通道质子流量计控制系统可以对气体的输送进行精确的调控
▪ 集成在前端的带钨丝加热的坩埚舟可以对前驱体进行蒸发用于后续的混合物理化学气相沉积阶段。
加热炉参数
▪ 最高温度:1200ºC(<30min),连续工作温度:1100℃;
▪ 两个PID温度控制器及30段可编程温控系统;
▪ 输入功率:208-240V,单相,最大功率:2.5KW;
▪ 高纯氧化铝纤维保温层可以最大限度降低能耗;
▪ 回转炉旋转速度:2-10rpm;
▪ 炉体开启式设计,以达到对样品快速降温,方便更换炉管。
蒸发舟参数
▪ 0.7mL氧化铝坩埚(由钨丝加热圈包围);
▪ S型热电偶插入坩埚中实现对蒸发物料的精确测温;
▪ 最高温度可达1300℃(<1h),长期使用温度:1200℃(当管内温度达800℃时,蒸发舟温度可达1500℃)。
射频电源
真空系统
▪ 采用TRP-12的双旋真空泵;
▪ KF25卡箍及波纹管用于连接管式炉与真空泵;
▪ 真空度可达10-2Torr。
供气系统
▪ 四通道质子流量计控制系统可实现气体流量的精确控制(精确度:±0.02%);
▪ 流量范围:一路 0-100 sccm二路 0-200 sccm三路 0-200 sccm四路 0-500 sccm
▪ 电压:208-240V, AC, 50/60Hz;
▪ 气体进出口配件:6mm OD的聚四氟管或不锈钢管;
▪ 不锈钢针阀用于手动控制气体进出;
▪ PLC触摸屏可以简便地进行气体流量设置。
产品尺寸和重量
▪ 炉体尺寸:2800mm L ´ 800mm W ´1700mm H;
▪ 混气系统尺寸:600mmL´850mm W´700mm
▪ 净重:180kg
承诺
▪ 一年质保期,终身维护(不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件)
▪ 因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。
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