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双通道ALD管式炉系统ALD-1200X-4是一款4英寸管式炉系统,包含用于原子层沉积的2个ALD进气阀、1个精密液体气相发CVD生长纳米材料和薄膜材料的4通道质子流量计控制系统。该管式炉系统简洁的设计使得更多的科担的低成本情况下实现ALD工艺实验。《查看更多》
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