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产品名称:双通道ALD管式炉系统

产品型号:ALD-1200X-4

更新时间:2022-08-01

产品特点:双通道ALD管式炉系统ALD-1200X-4是一款4英寸管式炉系统,包含用于原子层沉积的2个ALD进气阀、1个精密液体气相发CVD生长纳米材料和薄膜材料的4通道质子流量计控制系统。该管式炉系统简洁的设计使得更多的科担的低成本情况下实现ALD工艺实验。

品牌合肥科晶价格区间面议
仪器种类管式炉产地类别进口
应用领域化工,能源,电子,电气,综合

控制面板

· 蒸汽压力、ALD以及气体流量参数均可通过一6英寸接触屏由PLC进行控制 

· 两个ALD进气阀 

· 请点击下图查看控制面板(点击图片查看详细资料)

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ALD进气阀 

两个ALD脉冲电磁阀(最小可在10ms完成阀门的开启或关闭)

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精密液体气相发生器 

精密液体气相发生器包含在本系统中并且连接到ALD进气阀

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双温区管式炉

 · 连续工作的最高温度为1100℃

 · 两个温区由两个独立的温控系统来控制,而且都为PID30段程序化控温 

 · 每个加热区长度为200mm,加热区总长度为400mm 

 · 炉管两端放置管堵时两温区的最大温度差为500℃

 · 输入电压:208-240V AC,单向最大功率为4KW

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防腐型数显真空计

 · 测量范围:3.8x10-5 -1125 Torr

 · 耐腐蚀 

 · 对于气体的压力检测具有较高的精确度和重复性

 · 可实现快速的气体监测,响应时间较短易于更换插头及传感元件

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真空泵(选配)

 · 管内真空度可达10-2Torr 真空泵不包含在本系统内,如您进行CVD实验可点击下图选购无油涡旋真空泵

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混气系统

 · 可选购气液混合装置,用于CVD系统 

· 可选购恒温控制模块

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更新观念

 · 您可采用ALD设备搭建等离子增强原子层沉积+化学气相沉积系统(PE-ALD+CVD)和等离子增强原子层沉积+物理气相沉积+化学气相沉积ALD+PVD+CVD),用于生长各类材料

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质保期 

一年保质期,终身维护(不包含炉管,加热元件和密封圈)

质量认证

 · 如您另付费用,我们可保证单台仪器通过TUV(UL61010)或CSA认证

注意事项 

· 炉管内气压不可高于0.02MPa· 由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa 会更加精确安全· 当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态· 进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击· 点击此处了解如何选择本公司石英/陶瓷管以及管式炉真空法兰本公司有权随时修改PE-CVD系统的设计不再另行通知,但我们保证修改之后的仪器质量可以达到和超过上述标准

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