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VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。
VTC-1RF是一款小型台式单靶等离子溅射仪（射频磁控型），配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。
MSK-510小型液压圆柱电池封装机是美国MTI公司开发的一款小型液压圆柱电池封装机的产品:标配是18650封口一套，也可更换部分模具配件后封装各种不同的圆柱电池.
SFM-6真空搅拌机，主要由罐体和升降装备及750W电机和变频器组成，适用于真空状态下电池正负极浆料的分散混合。 例如LiCoO3、LiFePO4等粉状材料以及适用于各种陶瓷粉的混合。 通过编程控制器来设定时间，转速和旋转方向。
OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸发管式炉，专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。此款管式炉炉管直径为11“ OD，炉管内载样盘可放置3“ 的圆形或2“x2“的方形基片。加热元件为两组红外灯管，分别安装在腔体的顶端和底部，其升温速率高达20?C/S 。温控系统为PID30段程序化控制，控温精度为+/-1?C。仪器面板上带有RS485接口，若仪表内配有控温软件，就可将升温程序和曲线导出
GSL-1800X-ZF4是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀一些对氧较敏感的金属膜，如Ti, Al 和Au等，也可蒸镀各种氧化物材料。此款蒸镀仪安装有4个蒸镀加热头.对于实验研究，这是一款镀膜效果理想并且性价比较高的实验设备。
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