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高通量感应熔炼铸造系统,VMCS-1700-HT是带有气氛控制的多样品感应熔炼铸造系统。专为新一代合金材料的高通量研究而 钟内升温到1700℃,将具有不同成分的4-32个矩形(或圆形)样品熔融并铸造)。固化后的矩形样 孔,可直接用于变形处理。《查看更多》
小型混合箱式/管式炉,作为单纯的箱式炉可对样品在空气环境下进行热处理样品在真空或气氛保护环境下进行热处理,以电阻丝为加热元件,采用K型热电偶和30段可编程温度高纯氧化铝纤维材料,最高温度能达到1100度,可连续温度1000度,控温精度±1度,该炉具有体积温度速度快、节能等优点。此设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛下烧制样品,是高校、科研高温烧结,金属退火,质量检测用的产品。《查看更多》
GSL-1500X-MGI-8 是一款8通道管式炉,其炉管直径为Φ50mm,8个通道独立控温,其最高温度可以达到1500℃,可用于高通量法进行金属材料的热处理实验,快速得到所需成分的相图。《查看更多》
OTF-1200X-VII-80-GF是一款高温高压管式炉,炉体拥有8个温区。仪器中配有气体控制柜以及氧分析仪,可使炉管内的气压在升降温过程中保持恒定,特别是对于氧化物的处理,可使炉管内的氧分压保持恒定。炉管采用高温镍基合金钢制作,最高可耐温1100℃。此款高温高压炉特意设计为氧化物超导线和氧化物陶瓷进行热处理。《查看更多》
OTF-800X-S5-H是一款小型氢气管式炉,使用与材料在氢气环境下热处理。配有氢气报警器,探测有氢气泄露是可切断进气阀。《查看更多》
OTF-1200X-PGEP是一款多功能的合成系统,针对于合成各种纳米结构氧化物以及纳米材料的复合包覆工艺。此款仪器有三个主要模块组成:超声雾化装置、1200℃管式炉和高压静电收集装置组成。材料制作大概分为三个步骤:前驱体雾化、加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款非常先进的合成系统,可广泛应用于纳米材料制备、电极材料包覆复合等方面。《查看更多》
1200℃立式真空小管式炉OTF-1200X-S-VT是一款小型开启式立式管式炉,适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。采用PID控制器进行温度调节,可设置30段升降温程序,控温精度为± 1℃。《查看更多》
1200℃单温区可倾斜旋转炉OTF-1200X-4-R是针对无机化合物煅烧,为获得较好的一致性而设计。特别对于锂电池负极材料的制备,具有好的效果,且可提高导电性。此外,还可应用在粉体材料上涂层,如LiFePO3、LiMnNiO3等材料的研究和开发。《查看更多》
1200℃开启式双温区管式炉OTF-1200X-II最高温度可达到1200℃,并可通过调节两个独立的控温程序,使炉管内温度场形成一梯度。本机可用CVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。《查看更多》
1200℃微型开启式管式炉OTF-1200X-S是小型管式炉,最高工作温度为1200℃,最大功率为1200W,可配置直径为1“或2“的高纯石英炉管。炉管两端配置一对不锈钢法兰,设有机械压力表、不锈钢截止阀和宝塔嘴接头,允许样品在真空和气体保护下进行烧结。《查看更多》
这款小型PECVD,其腔体为 3*dia× 16“L的石英腔体,而且加热圈在石英腔体内部对样品进行加热,此系统配有2通道混气系统和双旋机械泵。整套仪器都按放在一个移动架上,以便于实验操作。等离子腔体内部的最高温度可以达到400℃,采用程序化控温。此款小型廉价的PECVD系统对于薄膜生长和纳米线的制作是一款很好的选择。《查看更多》
OTF-1200X-III-R5-PECVD是一款1200℃等离子增强化学气相沉积三温区回转管式炉系统(R-PECVD),等离子增强系统的引入可在相对较低的温度下实现粉末表面的包覆复合、核壳结构制备等工艺过程。自动进出料系统可实现连续生产,可保证在气氛保护环境下进行粉体的进给和收集,包含射频电源(带自动匹配功能)、四通道质子流量计控制系统及真空泵系统,可由PLC触摸屏或PC电脑控制,使用方便快捷。《查看更多》
OTF-1500X-III-4CV-PE-SL是一款三温区1500℃的PECVD管式炉系统,该设备由射频电源、1500℃三温区管式炉、多通道质子混气系统和真空系统组成。此款PECVD系统可广泛应用于生长纳米线、石墨烯及薄膜材料领域。《查看更多》
OTF-1200X-S-II-R-4CV-PE是一款1200℃PECVD等离子体增强气相沉积由射频电源、双温区管式炉、4通道质子流量计控制系统、性能优异的真空泵及水冷机组成。此套完整的设备系统特别适合用于无机复合粉末的热处理以及粉未表面的改性处理工艺中(如:粉体掺杂(空穴、间隙原子)、表面改性、表面包覆及制备锂离子电池阴极粉末的导电涂层等)。《查看更多》
OTF-1200X-50-1I-4CV-PE-MSL是一款双温区的PECVD管式炉系统,组成部分为500W的射频发生器、滑动速度可控的双温区滑轨炉,预热炉(作用为使固体原料蒸发)和德国进口的无油泵。此款PECVD对于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜是一款新的探索工具。《查看更多》
OTF-1200X-PESDFG-50是一款双炉体滑动的PECVD系统,连接循环手套箱。此款设备中石英炉管与循环手套箱连接,可利用CVD方法,将样品处理后直接移入到气氛保护环境下的手套箱中。炉体采用滑动式,可在实验室中对样品进行快速加热和快速冷却。此款仪器特别适合新一代纳米材料和二维晶体材料的探索研究。《查看更多》
OTF-1200X-1I-4CV-PE-SL是一款滑动式双温区PECVD 管式炉系统。该系统包含等离子射频电源,80mm 0D1800mm L的滑动式双温区管式炉,4通道质量流量供气系统和机械泵机组,可用于生长纳米或石墨烯材料。《查看更多》
OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型滑动开启式PECVD系统。此套设备配有等离子射频电源,直径为50mm的开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)及机械泵组成。该设备模型可更新为不同类型的PECVD 系统,且设备性价比较为理想《查看更多》
OTF-1200X-50S-PE是一款小型等离子体气相沉积管式炉系统(PECVD)。该设备配有等离子射频电源,开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)及一个直联式双旋机械泵。此套设备模型可组合为不同类型的PECVD系统,且设备性价较为理想。《查看更多》
为使化学反应能在较低的温度下进行,常利用等离子体的活性来促进反应,这种方法称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)。加热炉设备的内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层,可提高设备的加热效率,同时也可延长设备的使用寿命。《查看更多》
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