这款微型PECVD系统，其腔体为 3*dia× 16“L的石英腔体，而且加热圈在石英腔体内部对样品进行加热，此系统配有2通道混气系统和双旋机械泵。整套仪器都按放在一个移动架上，以便于实验操作。等离子腔体内部的最高温度可以达到400℃，采用程序化控温。此款小型廉价的PECVD系统对于薄膜生长和纳米线的制作是一款很好的选择。

OTF-1200X-III-R5-PECVD是一款1200℃等离子增强化学气相沉积三温区回转管式炉系统（R-PECVD），等离子增强系统的引入可在相对较低的温度下实现粉末表面的包覆复合、核壳结构制备等工艺过程。自动进出料系统可实现连续生产，可保证在气氛保护环境下进行粉体的进给和收集，包含射频电源（带自动匹配功能）、四通道质子流量计控制系统及真空泵系统，可由PLC触摸屏或PC电脑控制，使用方便快捷。

OTF-1500X-III-4CV-PE-SL是一款三温区1500℃的PECVD管式炉系统，该设备由射频电源、1500℃三温区管式炉、多通道质子混气系统和真空系统组成。此款PECVD系统可广泛应用于生长纳米线、石墨烯及薄膜材料领域。

OTF-1200X-S-II-R-4CV-PE是一款1200℃PECVD等离子体增强气相沉积由射频电源、双温区管式炉、4通道质子流量计控制系统、性能优异的真空泵及水冷机组成。此套完整的设备系统特别适合用于无机复合粉末的热处理以及粉未表面的改性处理工艺中（如：粉体掺杂（空穴、间隙原子）、表面改性、表面包覆及制备锂离子电池阴极粉末的导电涂层等）。

OTF-1200X-50-1I-4CV-PE-MSL是一款双温区的PECVD管式炉系统，组成部分为500W的射频发生器、滑动速度可控的双温区滑轨炉，预热炉（作用为使固体原料蒸发）和德国进口的无油泵。此款PECVD对于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜是一款新的探索工具。

OTF-1200X-PESDFG-50是一款双炉体滑动的PECVD系统，连接循环手套箱。此款设备中石英炉管与循环手套箱连接，可利用CVD方法，将样品处理后直接移入到气氛保护环境下的手套箱中。炉体采用滑动式，可在实验室中对样品进行快速加热和快速冷却。此款仪器特别适合新一代纳米材料和二维晶体材料的探索研究。