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产品名称:2单靶直流磁控溅射仪

产品型号:VTC-16-SM

更新时间:2024-04-09

产品特点:VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台,外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵。

    VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台,外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵。

    用直流磁控溅射仪可获得单相Al膜

    技术参数

   输入电压 AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz
   输入功率 < 2000W 
   输出功率 电压:1600VDC;大电流:150mA 
   腔体 石英腔体:167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height
  2英寸带水冷磁控溅射头
   溅射头和样品台 一个直径50mm不锈钢样品台,样品台可旋转,旋转速率0 - 5 RPM 
  配有一手动操作的挡板,包含靶头支撑架
  样品台和靶头之间的距离可以调节,调节范围:60-100mm
   控制面板 6" PLC集成触摸屏控制面板,可控制真空、电流、靶材位置和基片加热温度
  双极旋片真空泵VRD-8,KF25接口
   附件(可选) KF25不锈钢波纹管
  10L/min 循环水冷机冷却磁控靶头  
   气氛 含一个控制进气的针阀和一个放气阀
  靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm
   靶材 适合溅射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金属,可选购
   可选配件 膜厚监测仪
分子泵,可获得高真空, >10E-5 torr
为获得好的薄膜强度,建议镀膜前用等离子清洗机对基片进行清洗。
500度样品加热台         
   体积   ( L 440mm×W 330mm × H 290mm 
   净重 20 kg ( not included pump )
   质保和证书 一年质保,终生维护
CE认证
   磁控溅射镀膜知识 与客户分享新的磁控溅射镀膜技术,请点击文章链接- Plasma Sputter Coating.  

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