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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的双炉体滑动管式炉，炉管为Φ50×1400mm的石英管，并配有不锈钢密封法兰，仪器Z高温度可以达到1200℃。两个炉体可在滑轨上滑动，实现对原材料的蒸发/升华，及薄膜沉积。通过炉体的滑动可实现对样品快速加热，Z大升温速率为100℃/min.同时可选择电动滑轨、质量流量计（MFC）控制的供气系统和等离子射频电源来搭建TCVD系统。
OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉，石英管直径100mm，配有一个密封的液体容器用于样品淬火，温度从Z高1200度到冰水或油，可用于研究材料相转变和微结构性能。
VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台，外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空泵。
GSL-1800X-PGEP是一款多功能的合成系统，针对于合成各种纳米结构氧化物。此款仪器有三个主要模块组成：超声雾化装置、1800℃管式炉和静电沉降装置组成。材料制作大概分为三个步骤：前驱体雾化、加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款非常先进的合成系统，可控制器颗粒尺寸，形态，纳米/微粒结构。
GSL-1700X-VTQ是一款通过UL认证的立式真空管式淬火炉，标配有直径60mm的莫来石管和一个用于样品淬火的液体密封容器。该设备实验时可以使样品从高温环境下（Z高1700度）快速落入冰水或油中，非常适合用于研究材料相变和微结构性能。
OTF-1200X-4-SF是一款炉管尺寸为100mm，带有滑轨法兰的管式炉，Z高工作温度为1200℃，此款管式炉专为客户自己搭建CVD系统而设计。
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