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  • 500W直流溅射电源--DC-500-LD

    500W直流溅射电源--DC-500-LD

    更新日期:2024-06-15
    型号:
    厂商性质:代理商
  • 高真空腔体--HVC-SS

    本公司提供高真空腔体,客户可自行为一些实验搭建真空系统,如等离子溅射,CVD或ALD等实验,同时也可作为高真空储存箱。

    更新日期:2024-06-15
    型号:
    厂商性质:代理商
  • 超声波雾化模块(含130W的电源控制器和喷头)--MSK-SP-01A

    超声波雾化是利用超声波能量将液体或是胶状法分散成微米级的颗粒,其特点为雾粒喷出的初速度较小,且分散的雾粒尺寸较均匀。MSK-SP-01A就是一超声雾化模块,含有130W,40KHz的超声波源,客户可自行搭建超声雾化制膜设备。

    更新日期:2024-06-15
    型号:
    厂商性质:代理商
  • 超声雾化热解涂覆薄膜设备-- MSK-SP-04-LD

    喷雾热解制膜法,是将溶液雾化后喷涂到加热的基底上,然后在基底上得到想得到的物质结构。此种材料制备方法特别适用于沉积氧化物,而且在制备透明电极的应用中已有相当长的历史。现在这种方法在制备钙钛矿型太阳能电池中得广泛用。 MSK-SP-04-LD是一款超声喷雾热解设备,它可以精确控制溶液化学计量比、雾粒的喷出速度和雾粒大小等参数。采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器

    更新日期:2024-06-15
    型号:
    厂商性质:代理商
  • 膜厚监测仪--EQ-TM106

    EQ-TM106膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理,结合先进的频率测量技术,进行膜厚的在线监测。主要应用于MBE、OLED热蒸发、磁控溅射等设备的薄膜制备过程中,对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。根据实时速率可以输出PWM模拟量,作为膜厚传感器使用,与调节仪和蒸发电源配合实现蒸发源的闭环速率控制。

    更新日期:2024-06-15
    型号:
    厂商性质:代理商
  • VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪--VTC-600-2HD

    VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。

    更新日期:2024-06-15
    型号:
    厂商性质:代理商
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