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产品分类CLASSIFICATION
详细介绍
| 品牌 | TIMES/添时 | 应用领域 | 科研项目 |
|---|---|---|---|
| 实验服务 | 二维材料生长、样品气氛退火与热处理、等离子体表面处理与改性、薄膜沉积、材料烧结、气相合成 |
实验室搭载整套半导体级高洁净气路与高精度流量控制系统,共设置 8 路独立供气通道,整套系统经过专业管路优化与压力稳压设计,气体输送稳定、流量调控精准,可严格匹配各类高要求精密科研实验的用气标准。平台常备氩气、氢气、甲烷、乙烯、乙炔、氧气、氮气、氦气等多种高纯实验气体、气源品质可靠,能够充分适配薄膜沉积、高温材料烧结、气相合成、不同氛围下样品退火等各类主流实验工况,全面满足半导体材料、低维材料、功能薄膜等方向的实验用气需求。
平台同时配置 2 英寸、4 英寸两种常用规格的管式炉设备,并配套集成高性能等离子源系统,整体硬件配置完备,设备运行稳定,具备工艺拓展与适配能力。依托这套一体化设备组合,我们可为广大科研人员提供多元化技术服务,涵盖高质量二维材料生长、不同气氛环境下样品退火处理、等离子体辅助加工等实验项目,凭借成熟的设备条件与实操经验,有力支撑材料科学、凝聚态物理等领域的课题开展与技术研究。
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