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详细介绍
| 品牌 | TIMES/添时 | 应用领域 | 科研项目 |
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平台搭载 8 路独立供气通道,采用经过电解抛光与钝化处理的 316L 不锈钢管路,搭配进口高精度质量流量控制器(MFC),可实现从 sccm 到 slm 级别的精准流量调节与闭环控制,确保气体配比,杜绝杂质污染与流量波动,为薄膜沉积、气相合成等对气源稳定性要求高的实验提供保障。
常备气源与适配场景
平台常备 8 类高纯实验气体:惰性气体(氩气、氮气、氦气)、还原性气体(氢气)、反应性气体(氧气、乙炔)及碳源气体(甲烷、乙烯),所有气体均通过专用减压阀、过滤器与单向阀组成的安全模块进行二次处理,有效去除颗粒杂质与水分,确保供气品质。这些气源可全面适配:薄膜沉积(如磁控溅射、PECVD、MOCVD 工艺)
材料烧结与热处理(真空 / 气氛保护烧结、气氛退火、回火工艺)
气相合成(CVD 二维材料生长、碳纳米管制备)
粉体改性与还原(金属氧化物还原、气氛改性处理)
等多种材料制备工况,覆盖从基础材料表征到功能薄膜制备的全流程用气需求。
安全与可靠性保障
系统配备多级安全防护机制,包括防回火装置、紧急切断阀、气体泄漏报警与压力监测模块,可实现对供气压力、流量、泄漏状态的实时监控与异常联动保护,在保障实验连续性的同时,大程度降低安全风险,为科研人员提供稳定可靠的实验环境
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