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多靶磁控溅射镀膜系统用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜等新型薄膜材料的制备。本设备主要用于金属薄膜的沉积,可提供的靶材有铜、铝等金属的沉积。
多靶磁控溅射镀膜系统用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜等新型薄膜材料的制备。本设备主要用于金属薄膜的沉积,可提供的靶材有铜、镍、钴、铁、钽、铬、钛、铝、钨等金属的沉积。
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