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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的双炉体滑动管式炉,炉管为Φ50×1400mm的石英管,并配有不锈钢密封法兰,仪器Z高温度可以达到1200℃。两个炉体可在滑轨上滑动,实现对原材料的蒸发/升华,及薄膜沉积。通过炉体的滑动可实现对样品快速加热,Z大升温速率为100℃/min.同时可选择电动滑轨、质量流量计(MFC)控制的供气系统和等离子射频电源来搭建TCVD系统。《查看更多》
OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉,石英管直径100mm,配有一个密封的液体容器用于样品淬火,温度从Z高1200度到冰水或油,可用于研究材料相转变和微结构性能。《查看更多》
VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪,包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台,外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵。《查看更多》
GSL-1800X-PGEP是一款多功能的合成系统,针对于合成各种纳米结构氧化物。此款仪器有三个主要模块组成:超声雾化装置、1800℃管式炉和静电沉降装置组成。材料制作大概分为三个步骤:前驱体雾化、加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款非常先进的合成系统,可控制器颗粒尺寸,形态,纳米/微粒结构。《查看更多》
GSL-1700X-VTQ是一款通过UL认证的立式真空管式淬火炉,标配有直径60mm的莫来石管和一个用于样品淬火的液体密封容器。该设备实验时可以使样品从高温环境下(Z高1700度)快速落入冰水或油中,非常适合用于研究材料相变和微结构性能。《查看更多》
OTF-1200X-4-SF是一款炉管尺寸为100mm,带有滑轨法兰的管式炉,Z高工作温度为1200℃,此款管式炉专为客户自己搭建CVD系统而设计。《查看更多》
OTF-1200X-HP-III-W是一款带有石英窗口的高温高压炉,炉管采用高温镍基合金钢制作,可承受的Z高温度为1100℃。两端法兰上都安装有石英窗口,可允许各种波长的光通过整个炉管。所以,此款管式炉特别适合在高温高压的环境下进行光学气体分析实验。《查看更多》
OTF-1200X-HP-55是一款通过CE认证的开启式管式炉,其炉管采用无缝镍基合金管,此款设备专为高温高压实验设计,Z高压力高达20MPa,Z高温度可达1100℃,并可通入多种氧化或惰性保护气体。对于高压制备新材料和作为小型热等静压处理合金样品,这是一款理想的高温管式炉。《查看更多》
OTF-1200X-HP-30A是一款小型的高温高压管式炉,其炉管法兰上安装有高压电磁阀和压力传感器,所以当管内气压高于设定值时,电磁阀会自动打开排气,使管内气压达到设定值。其炉管采用镍基合金钢管制作,其尺寸为30mm O.D x 12 mm I.D x 560 mm L。《查看更多》
KSL-1700X-H2是一款通过CE认证的高温箱式炉,此款仪器专门针对于材料在氢气环境或惰性气体环境进行烧结或是退火,其Z高温度可高达1700℃。KSL-1700X-H2采用氧化铝纤维作为炉膛材料(炉膛尺寸为8“x 8“x12“),以钼丝作为加热元件,炉体顶部密封板中嵌有冷却水管,以保证仪器工作时的密封性能。对需在惰性气体或还原性气体环境下烧结的材料(如荧光材料,钛合金等),KSL-17《查看更多》
OTF-1200X-R-60HG是一款通过CE认证的氢气双温区旋转管式炉,此款仪器专门针对于材料在氢气环境或惰性气体环境进行烧结或是退火,也可针对于粉料的混烧,Z高工作温度可以达到1200度,炉管内部焊有4片杨料板,仪器运行时炉管可以360°转动,可以增加粉料烧结的均匀性。《查看更多》
电子触控式操作方。具有电子侦测装置,任何时间都能保持在真空状态,让所保存的食物和贵重物品永远处在保存状态。多功能的真空保鲜收纳器,具有保质,防潮,首饰,贵重金属等物品的保存与防潮等万用保鲜防潮作用。《查看更多》
GSL-1200X-H8管式炉拥有三个独立控制的加热区,炉管材料为SS310不锈钢,Z高工作温度为800℃。此款管式炉专门设计为样品在流动的氢气气氛或高真空环境下(Z高真空度可达10E-5 tor)对材料进行热处理。此管式炉的密封采用高真空CF法兰,并配有自动点火器和氢气探测器,使得实验地安全。《查看更多》
适用于各种晶片机械擦洗;《查看更多》
OTF-1200X-II-HG是一款双温区湿度可控氢气热处理炉,此设备带有两通道气体控制器,气液混合罐,露点仪和氢气探测器,此设备专门设置对材料进行湿氢处理,以达到材料表面部分氧化,同时也进行各种CVD实验。精密露点仪测量精度可以达到 +/-1.5%RH。若有实验中发生氢气微露现象(氢气爆炸点的10%),3M公司的氢气探测器将发生报警信号,使整个实验在安全的环境下进行。《查看更多》

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