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天然金刚石,笔头可伸缩,适合切割各种晶体实验材料《查看更多》
该胶为改性环氧、改性胺类和银粉组成双组份银胶。按比例配制的导电胶性能稳定,粘结强度较高,工艺简便,室温成形,也可加温固化。体积电阻率10-3~10-4Ω·cm。广泛用于电子电器工业中金属、陶瓷、玻璃、电极、薄膜电阻间的导电性能粘接。《查看更多》
OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速热处理炉,其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。5英寸近距离蒸发镀膜炉针对于热蒸发或CSS(Close Spaced Sublimation)镀膜实验,其镀膜面积可达到5“x5“。《查看更多》
本产品应广大高校和科研院所的科研人员要求开发,产品操作方便,切割精度高、价格便宜,适用于实验室小面积ITO导电玻璃及其它薄玻璃基片切割.《查看更多》
OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4“ 石英管和真空法兰, 它是专为半导体或太阳能电池基片(Z大达3“)的退火而设计,采用10KW红外灯管加热Z快升温速度为 50°C/秒. 30 段温度控制,精度为 +/-1°C. 计算机通过RS485口和控制软件实时控制炉子和显示温度曲线 。《查看更多》
OTF-1200X-50-SL是一款CE认证的可滑动管式炉,配置外径50x 1000mm石英管,工作温度Z高达1200°C。炉底安装一对滑轨,可滑动。加热和冷却速率Z大可达100°C/m。为取得Z快加热,可以预先加热炉子到设定的温度,然后移动炉子到样品位置。为获得Z快冷却,可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到15°C/s,是低成本快速热处理的理想。《查看更多》
SP-85KTC是一款较大型高温感应加热/熔炼炉系统,配用30KW感应加热器,8.5英寸(216mm)石英管,铰链式法兰及阀门,石墨坩埚、石墨毯、氧化铝保温毯,16L/min循环冷水机,真空泵和移动炉架.针对于生长晶体,金属熔炼和各种材料的热处理的实验帮手.仪器Z高温度可以达到2000℃(使用时石英管内需通入保护性气体)《查看更多》
高弹性膜结构,优良避震性能,适应各种精密、高值、易碎晶体基片及各种小器件使用。《查看更多》
OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉,石英管直径100mm,配有一个密封的液体容器用于样品淬火,温度从Z高1200度到冰水或油,可用于研究材料相转变和微结构性能。《查看更多》
A-Z系列金属多晶基片《查看更多》
OTF-1200X-4-VT-II是通过CE认证的双温区立式管式炉,其炉管直径可制作为100mm,适合于对样品在真空或气氛保护环境下进行吊烧和淬火。炉体下端安装有一移动架以方便与移动。采用PID方式进行温度调节,可设置30段升降温程序,控温精度为+/- 1 ℃.《查看更多》
OTF-1200X-S-FB是一款流化床立式管式炉,专门针对粉末表面沉积的CVD实验,炉管为高纯石英管,炉管内部嵌有一多孔石英板,石英板的孔径为5-15um.粉末可放在多孔石英板上,气体可从炉管下端通入,通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域,进行沉积实验。《查看更多》
OTF-1200X-80-VT 是一款已通过CE认证的可开盖垂直管式气氛炉,能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温,石英管尺寸Φ80mm,30段可编程温度控制器,控温精度±1℃。炉体垂直安装在可移动的支架上方便炉管的取放。《查看更多》

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