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1700℃真空气氛管式炉主要特点:炉膛顶部安装防爆机械排气阀;带过电流过电压保护,漏电保护电气元件及电缆,冷压端子均符合UL认证标准;针对于材料在惰性气体环境进行烧结或是退火,其最高温度可高达1700...

UNIPOL-802自动精密研磨抛光机适用于各种材料的研磨与抛光,本机设置了Ø203mm的研磨抛光盘和两个加工工位,可用于研磨抛光≤Ø80mm的平面。UNIPOL-802自动精密研...

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上海添时科学仪器有限公司是一家代理国内外仪器的经销及技术服务的专业公司。国内管式炉,退火炉,气氛炉,真空感应熔炼炉,箱式炉,手套箱,研磨抛光机,电池测试恒温箱,金刚石线切割机,磁控溅射仪,蒸发镀膜,PECVD设备供应商!公司所涉及的产品遍布大专院校、科研单位、工厂企业、商检、农业、食品、超市、治金矿山、建筑、石油、路桥等行业。主要产品:生命科学仪器,化学分析仪器,光学仪器,物性测试仪器及设备,环保设备/流量仪表,行业专用仪器,药物检测仪器,种子仪器,农业和食品仪器,石油仪器,煤炭仪器,测绘仪表,建筑仪器,公路仪器,地质仪器,电工仪器仪表,自动化仪表,气象仪器,环保仪器,电教器材,无线电仪器,小型机械等。并且提供与生物技术相关的实验室科研仪器设备、实验室耗材与试剂、实验室设计、规划、改建等服务。公司以“高品质,高服务,高信誉”赢得各地市场,各个领域的好评和欢迎。未来,公司将引进和代理更多国内产品,并将研发自有品牌的产品以满足市场不同的需求,以更高质量的产品,更高质量的服务,更高效率的运营,...

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公司新闻/News
技术文章/Article
  • 2025-04-18
    高效能CVD气相沉积工艺优化与控制策略
    CVD气相沉积技术作为一种制备薄膜材料的重要方法,在半导体、光学、涂层等多个领域有着广泛应用。为提高其效能,优化工艺及精准控制至关重要。优化反应气体供给是关键。控制气体的流量、配比及纯度,能确保反应的顺利进行。同时,采用高纯气体,可减少杂质引入,改善膜的性能。温度精准控制对于高效能CVD至关重要。温度直接影响反应速率、薄膜的生长速率和质量。通过精确的加热系统,根据不同的沉积材料和工艺要求,设定合适的沉积温度范围。压力控制也是优化CVD气相沉积工艺的重要环节。适当的压力环境能调...
  • 2025-03-20
    混合箱式炉如何助力工业生产中的温控精度?
    在工业生产领域,温控精度对于许多工艺环节的成功与否至关重要。混合箱式炉作为一种加热设备,在提升工业生产中的温控精度方面发挥着作用。一、多区域控温设计通常采用多区域独立控温的设计。其内部被划分为多个不同的加热区域,每个区域都配备有独立的加热元件和温度传感器。这种设计可以针对生产过程中不同部位的温度需求进行精确调控。同时,每个区域的温度传感器可以实时监测温度变化,并将数据反馈给控制系统,控制系统再根据反馈信息精准地调整加热元件的输出功率,进一步提高了温度控制的准确性。二、温度监测...
  • 2024-12-09
    研磨抛光机在金属加工中的应用与优势介绍
    研磨抛光机作为金属加工领域的重要设备,广泛应用于金属表面的处理,旨在提高工件的表面质量和美观度。一、应用领域1、精密零件加工:在精密机械制造中,研磨抛光机可用于处理小型、高精度的金属零件,以达到镜面效果,提升其使用性能和寿命。2、汽车零部件处理:汽车零部件如发动机缸体、曲轴等经过研磨抛光后,可减少摩擦阻力,提高燃油效率和动力输出。3、航空航天部件制造:航空航天领域对零部件的表面质量要求较高,能够确保这些部件达到严格的表面光洁度标准。4、医疗器械生产:医疗器械如手术器械、植入物...
  • 2024-11-13
    混合箱式炉的维护保养要点有哪些?
    混合箱式炉,作为一种高效且多功能的加热设备,在众多工业领域有着广泛的应用。然而,为了确保其长期稳定的运行和延长使用寿命,定期的维护保养至关重要。一、日常检查每日操作前,应仔细检查外观是否有明显的损伤或变形,各连接部位是否紧固无松动。此外,还需检查炉内是否有残留物,若有应及时清理,以免影响加热效果。二、定期清理在使用过程中,容易积累灰尘、杂质等污物。这些污物不仅会影响炉内的热效率,还可能导致炉膛堵塞、加热元件损坏等问题。因此,应定期对炉内进行清理,一般建议每季度进行一次全面清理...
  • 2024-10-21
    PECVD等离子体增强气相沉积在薄膜太阳能电池中的应用说明
    PECVD等离子体增强气相沉积技术,在薄膜太阳能电池的生产过程中占据着重要的地位。这一技术手段不仅提高了太阳能电池的转换效率,还大幅降低了生产成本,为太阳能电池的大规模商业化应用奠定了坚实基础。在薄膜太阳能电池的制作中,PECVD主要用于沉积薄膜材料。与其他传统的沉积方法相比,具有诸多优势。它能够在较低的温度下完成薄膜的沉积,这对于保护电池中的敏感材料和结构至关重要。同时,能够实现高精度的薄膜厚度控制,这对于电池性能的一致性和稳定性有着至关重要的影响。PECVD等离子体增强气...
  • 2024-09-16
    提高研磨抛光机效率的实用建议
    研磨抛光机是制造业中的重要设备,广泛应用于金属、陶瓷、玻璃等材料的表面处理。为了提高生产效率和降低成本,以下是一些实用的改进建议。一、优化工艺流程先要对整个研磨抛光工艺流程进行全面梳理和优化。明确每个工序的目标和要求,合理安排工序顺序,减少不必要的中间环节。同时,引入自动化和智能化技术,实现生产线的高效运转。二、选用合适的研磨抛光材料选择合适的研磨抛光材料是提高效率的关键。根据待处理材料的性质和要求,选择具有适当硬度、粒度和形状的磨料。同时,合理控制磨料的浓度和供给量,以确保...
  • 2024-09-14
    如何优化真空感应熔炼炉的操作流程?
    真空感应熔炼炉是一种熔炼设备,广泛应用于航空航天、汽车制造、机械工程等领域。为了提高生产效率、降低成本并确保产品质量,优化操作流程至关重要。以下是一些建议和措施,以帮助您优化操作流程。一、前期准备1.设备检查与维护在开始熔炼之前,务必对真空感应熔炼炉进行全面检查,确保设备处于良好状态。检查内容包括电气系统、冷却系统、真空系统等。定期对设备进行维护保养,以延长使用寿命。2.原材料准备确保原材料的质量符合要求,避免因杂质过多或成分不均导致熔炼失败,对原材料进行适当的预处理。二、操...
  • 2024-09-02
    真空感应熔炼炉的能源消耗与成本控制
    真空感应熔炼炉是一种高效、节能的金属熔炼设备,广泛应用于航空航天、冶金、机械制造等领域。一、能源消耗特点真空感应熔炼炉的能源消耗主要包括电能、燃料消耗和辅助设备能耗等。其中,电能是主要的能源消耗部分,主要用于加热、搅拌和真空抽气等过程。燃料消耗主要发生在需要辅助加热的情况下。辅助设备能耗则包括水泵、风机、冷却系统等的能耗。二、影响能源消耗的因素能源消耗受到多种因素的影响,如熔炼材料的种类和性质、熔炼工艺参数、设备的设计和制造水平、操作人员的技能水平等。因此,在实际生产过程中,...
  • 2025-04-24
    PECVD等离子体增强气相沉积的工艺研究与性能优化介绍
    PECVD等离子体增强气相沉积作为一种重要的薄膜制备技术,在半导体、光学和能源等领域具有广泛应用。一、​​工艺研究​​PECVD等离子体增强气相沉积利用等离子体对气体分子进行离解和激活,使反应在较低温度下快速进行。其关键工艺参数包括等离子体功率、气体流量、反应压力和基片温度等。等离子体功率决定了反应中活性物种的浓度和能量,影响着薄膜的沉积速率和质量。气体流量和反应压力则控制着反应气体在反应腔内的浓度和分布,进而影响薄膜的组成和均匀性。基片温度对薄膜的生长结构和结晶度有着重要影...
  • 2025-04-21
    如何优化CVD气相沉积过程以提高薄膜质量?
    CVD气相沉积是一种用于制备各种薄膜材料的常用技术。为了获得高质量的薄膜,在CVD过程中可以从以下几个方面进行优化。​​一、优化反应气体的选择与控制​​选择合适的前驱体气体是关键。前驱体应具有良好的挥发性、热稳定性和反应活性,能够按照预期在基底上发生反应生成目标薄膜。同时,要精确控制反应气体的流量、浓度和比例。采用质量流量控制器可以实现对气体流量的精准控制,确保反应在合适的气体组成下进行。​​二、改善反应环境条件​​​​温度​​:温度对CVD薄膜的生长速率、结晶质量和化学成分...
  • 2025-04-16
    如何优化PECVD等离子体增强气相沉积过程以提高薄膜质量和沉积均匀性?
    PECVD等离子体增强气相沉积是一种广泛应用于制备薄膜材料的技术。为提高薄膜质量和沉积均匀性,可从以下几个关键方面进行优化。​​一、工艺参数的精细调控​​1、​​功率控制​​射频(RF)功率是PECVD等离子体增强气相沉积的关键参数。适当提高功率能增强等离子体密度,促进反应气体分解,增加活性基团数量,有利于薄膜沉积。但过高的功率可能导致等离子体对基底的过度轰击,损伤基底或使薄膜产生缺陷。因此,需要根据基底材料和薄膜类型,精确调节功率,找到较佳平衡点。​​2、气体流量与压力​​...
  • 2025-04-15
    真空热电弧熔炼炉的安装调试流程
    真空热电弧熔炼炉是一种用于高温熔炼和精炼金属的先进设备,其安装调试过程对于确保设备的正常运行和生产效率至关重要。以下是对真空热电弧熔炼炉安装调试方式的详细描述:一、安装准备1.场地确认:首先,需要确认安装场地符合设备要求,包括空间大小、地面承载能力、电源供应等。场地应平整、干燥、通风良好,且远离易燃易爆物品和腐蚀性气体。2.设备检查:在安装前,应对真空热电弧熔炼炉进行全面检查,包括外观检查、配件清单核对、内部结构检查等,确保设备在运输过程中没有受到损坏或缺失部件。3.基础施工...
  • 2025-03-26
    真空气氛管式炉的热处理工艺与控制技术分析
    真空气氛管式炉作为材料加工领域的重要设备,在热处理工艺中发挥着关键作用。其能够提供精确的温度、气氛控制,满足不同材料的特殊热处理需求。深入了解其热处理工艺与控制技术,对于提高材料性能、保障产品质量具有重要意义。一、热处理工艺1、​加热阶段在真空气氛管式炉中,加热过程是热处理工艺的重要环节。由于炉内处于真空或特定气氛环境中,热量传递主要依靠辐射。这种方式能使炉内温度均匀性较好,减少因对流和传导造成的温度不均现象。​2、保温阶段保温阶段的时间和温度对于材料的组织转变和性能改善起着...
  • 2025-03-21
    研磨抛光机的使用流程有几步
    研磨抛光机是一种广泛应用于各种材料表面处理的设备,其使用流程对于确保加工质量和效率至关重要。以下是对研磨抛光机使用流程的详细描述:一、准备工作1.设备检查:-在开机前,首先要对研磨抛光机进行全面检查,包括电源线是否完好、开关是否灵活、防护装置是否牢固等。-检查砂轮或抛光轮是否安装牢固,有无松动或损坏现象。-确保研磨抛光机的工作环境整洁,无杂物干扰。2.选择研磨具:-根据待加工材料的性质和加工要求,选择合适的研磨具。-研磨具应具有良好的耐磨性和适当的硬度,以确保研磨效果。3.调...
  • 2025-03-17
    提拉涂膜机在电子与薄膜材料中的关键作用
    在电子与薄膜材料领域,提拉涂膜机正发挥着关键作用,它是制备高质量薄膜材料的核心设备之一。一、薄膜材料制备的核心设备电子与薄膜材料的发展对于微观结构和均匀性要求较高,通过涂覆工艺,能够将各种功能性液体均匀地涂抹在基底材料上,进而经过干燥、固化等过程形成薄膜。无论是在半导体芯片制造中需要的超薄导电层,还是在光学薄膜领域用于调控光的反射、折射和吸收的功能膜,都能精确控制涂覆厚度和均匀性,为制备满足应用需求的薄膜材料提供了坚实保障。二、精确控制薄膜厚度在电子器件中,薄膜厚度的微小差异...
  • 2025-03-11
    手套箱在化学实验中的重要性与操作技巧分析
    在化学实验领域,手套箱是一种重要设备,尤其在处理敏感、危险或高活性化学物质时,发挥着至关重要的作用。了解重要性并掌握正确的操作技巧,对于保障实验安全、提高实验效率具有重要的意义。一、在化学实验中的重要性(一)提供隔离环境,保障人员安全化学实验中,许多物质具有毒性、腐蚀性或反应活性。通过将操作区域与外界环境隔离开来,使得操作人员的手部能够通过手套伸入内部进行操作,而直接与危险物质隔离,避免了人体接触有害物质的风险,更大程度保障了实验人员的健康和安全。(二)维持特定的气体氛围和湿...
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